Substrate noise isolation experiments in a 0.18mm 1P6M triple-well CMOS process on a lightly doped substrate / Vinella, R. M.; VAN DER PLAS, G; Soens, C; Rizzi, Maria; Castagnolo, B.. - (2007).

Substrate noise isolation experiments in a 0.18mm 1P6M triple-well CMOS process on a lightly doped substrate

RIZZI, Maria;
2007-01-01

2007
1-4244-0589-0
Substrate noise isolation experiments in a 0.18mm 1P6M triple-well CMOS process on a lightly doped substrate / Vinella, R. M.; VAN DER PLAS, G; Soens, C; Rizzi, Maria; Castagnolo, B.. - (2007).
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