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POLITECNICO DI BARI - Catalogo dei prodotti della Ricerca
The microwave plasma enhanced chemical vapor deposition technique has been employed to grow polycrystalline diamond films on p-doped Si (100) substrates starting from highly diluted (1% CH4 in H2) gas mixtures. Coplanar interdigitated Cr/Au contacts have been thermally evaporated on two samples about 8 mum thick having different grain size. Dark current-voltage (I-V) measurements and impedance characterization have been found to be dependent on the grain size and on the quality of the examined samples.
Preliminary study on polycrystalline diamond films suitable for radiation detection / Acquafredda, P., Bisceglie, E., Bottalico, D., Brescia, R., Brigida, M., Caliandro, G.A., Capitelli, M., Casamassima, G., Cassano, T., Celiberto, R., Cicala, G., Crismale, V., De Giacomo, A., De Pascale, O., Favuzzi, C., Ferraro, G., Fusco, P., Gargano, F., Giglietto, N., Giordano, F., et al.. - (2009), pp. 70-75. (3rd International Workshop on Advances in Sensors and Interfaces, IWASI 2009 Trani (Italy) June 25-26, 2009) [10.1109/IWASI.2009.5184770].
Preliminary study on polycrystalline diamond films suitable for radiation detection
Acquafredda, P.;Bisceglie, E.;Bottalico, D.;Brescia, R.;Brigida, M.;Caliandro, G. A.;Capitelli, M.;Casamassima, G.;Cassano, T.;CELIBERTO, Roberto;Cicala, G.;Crismale, V.;De Giacomo, A.;De Pascale, O.;Favuzzi, C.;FERRARO, Giovanni;Fusco, P.;Gargano, F.;GIGLIETTO, Nicola;Giordano, F.;Gorse, C.;Laporta, V.;Longo, S.;Loparco, F.;Marangelli, B.;Mazziotta, M. N.;Mirizzi, N.;Muscarella, M. F.;Nitti, M. A.;Rainò, A.;Romeo, A.;Senesi, G.;Spinelli, P.;Valentini, A.;Verrone, G.
2009
Abstract
The microwave plasma enhanced chemical vapor deposition technique has been employed to grow polycrystalline diamond films on p-doped Si (100) substrates starting from highly diluted (1% CH4 in H2) gas mixtures. Coplanar interdigitated Cr/Au contacts have been thermally evaporated on two samples about 8 mum thick having different grain size. Dark current-voltage (I-V) measurements and impedance characterization have been found to be dependent on the grain size and on the quality of the examined samples.
Preliminary study on polycrystalline diamond films suitable for radiation detection / Acquafredda, P., Bisceglie, E., Bottalico, D., Brescia, R., Brigida, M., Caliandro, G.A., Capitelli, M., Casamassima, G., Cassano, T., Celiberto, R., Cicala, G., Crismale, V., De Giacomo, A., De Pascale, O., Favuzzi, C., Ferraro, G., Fusco, P., Gargano, F., Giglietto, N., Giordano, F., et al.. - (2009), pp. 70-75. (3rd International Workshop on Advances in Sensors and Interfaces, IWASI 2009 Trani (Italy) June 25-26, 2009) [10.1109/IWASI.2009.5184770].
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11589/21372
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2023-2025 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
